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a Ciclo Unico
Scuola di Scienze
SCIENZA DEI MATERIALI
Insegnamento
TECNICHE PER IL VUOTO E FILM SOTTILI
SC03119798, A.A. 2018/19

Informazioni valide per gli studenti immatricolati nell'A.A. 2018/19

Principali informazioni sull'insegnamento
Corso di studio Corso di laurea in
SCIENZA DEI MATERIALI
SC1163, ordinamento 2008/09, A.A. 2018/19
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Crediti formativi 6.0
Tipo di valutazione Voto
Denominazione inglese VACUUM AND THIN FILMS TECHNIQUES
Sito della struttura didattica http://www.chimica.unipd.it/corsi/corsi-di-laurea/laurea-scienza-dei-materiali
Dipartimento di riferimento Dipartimento di Scienze Chimiche
Sito E-Learning https://elearning.unipd.it/chimica/course/view.php?idnumber=2018-SC1163-000ZZ-2018-SC03119798-N0
Obbligo di frequenza No
Lingua di erogazione ITALIANO
Sede PADOVA
Corso singolo È possibile iscriversi all'insegnamento come corso singolo
Corso a libera scelta È possibile utilizzare l'insegnamento come corso a libera scelta

Docenti
Responsabile CRISTIAN PIRA 000000000000

Dettaglio crediti formativi
Tipologia Ambito Disciplinare Settore Scientifico-Disciplinare Crediti
AFFINE/INTEGRATIVA Attività formative affini o integrative FIS/03 6.0

Organizzazione dell'insegnamento
Periodo di erogazione Primo semestre
Anno di corso I Anno
Modalità di erogazione frontale

Tipo ore Crediti Ore di
didattica
assistita
Ore Studio
Individuale
LABORATORIO 3.0 36 39.0
LEZIONE 3.0 24 51.0

Calendario
Inizio attività didattiche 01/10/2018
Fine attività didattiche 18/01/2019
Visualizza il calendario delle lezioni Lezioni 2019/20 Ord.2008

Commissioni d'esame
Commissione Dal Al Membri
4 a.a. 2018/19 20/01/2014 30/11/2019 MATTEI GIOVANNI (Presidente)
PIRA CRISTIAN (Membro Effettivo)

Syllabus
Prerequisiti: Il corso prevede conoscenze di Fisica I e Fisica II. In particolare conoscenze di elettromagnetismo e meccanica dei fluidi.
Conoscenze e abilita' da acquisire: Al termine del corso gli studenti conosceranno le basi della produzione e la misura del Vuoto e saranno in grado di identificare i componenti di un sistema da vuoto reale e di utilizzarlo in prima persona. Acquisiranno inoltre conoscenze nel campo della deposizione dei film sottili sperimentandole attraverso le attività in laboratorio.
Modalita' di esame: La verifica delle conoscenze e delle abilità attese viene effettuata con una prova di esame orale, della durata di circa mezz’ora, nella quale verranno poste domande aperte che verteranno su tutti gli argomenti svolti nel corso.
Criteri di valutazione: La valutazione della preparazione dello studente si baserà sulla comprensione degli argomenti svolti, sull'acquisizione dei concetti e delle metodologie proposte e sulla capacità di applicarli in modo autonomo.
Contenuti: Flusso di Gas attaverso canalizzazioni: Regimi di flusso Conduttanza ed impedenza; Flusso di gas in stato viscoso; Flusso di gas in regime molecolare; Conduttanza di una piccola apertura; Conduttanza di tubi corti, lunghi e a gomito; Materiali per il vuoto: Desorbimento Permeabilita', Solubilita', diffusione e degasamento; Il baking di un sistema da vuoto; Saldature e brasature da vuoto; Materiali e componenti del vuoto; Passanti elettrici, rotatori e traslatori; Produzione del vuoto: Pompe rotative, Zeoliti e trappole; Pompe a pistone, Pompe a membrana, Pompe Trocoidali, Pompe scroll, Pompe roots, Pompe Claw, Pompe turbomolecolari, Fompe a diffusione, Pompe criogeniche; Dimensionamento di una camera da vuoto in basso vuoto e in UHV; Elementi di Progettazione; Le regole auree e gli errori da non fare; Misura del vuoto: Vacuometri Pirani, Vacuometri a Termocoppia, Vacuometri capacitivi, Vacuometri penning, Vacuometri a ionizzazione, Vacuometri Bayard Alpert, Analizzatori quadrupolari di massa, Ricerca di fughe reali e virtuali, Fondamenti di Elettrotecnica, La rete trifase, Il monofase, Collegamenti circuitali, Automatismi a Relais ed applicazione ai sistemi da vuoto, Funzionamento di motori ed applicazioni nel PVD, Deposizione di films sottili: Fondamenti dello sputtering, Sputtering in regime DC, RF, Biased Deposizione per arco Catodico. Film per elettroplating, Pulizia dei substrati, L’elettropulitura dei substrati, Confinamento magnetico di plasmi: Progettazione e costruzione di sorgenti di deposizione. Progettazione di impianti da ultra alto vuoto per la deposizione PVD di films sottili; Esercitazione di laboratorio circa le problematiche sperimentali della produzione del vuoto.
Attivita' di apprendimento previste e metodologie di insegnamento: Lezioni frontali in cui i contenuti del corso vengono affrontati con supporto informatico (file powerpoint). Esercitazioni in laboratorio in cui verranno utilizzate le principali attrezzature per la produzione e la misura del vuoto.
Eventuali indicazioni sui materiali di studio: Tutto il materiale didattico presentato durante le lezioni frontali è reso disponibile online sul sito http://www.surfacetreatments.it
Testi di riferimento:
  • Bruno Ferrario, Introduzione alla tecnologia del vuoto, II edizione. --: Patron, 1999. Cerca nel catalogo
  • Donald M. Mattox, Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing, II edition. --: Elsevier, 2010. Cerca nel catalogo

Didattica innovativa: Strategie di insegnamento e apprendimento previste
  • Lecturing
  • Laboratory

Obiettivi Agenda 2030 per lo sviluppo sostenibile
Istruzione di qualita' Uguaglianza di genere Industria, innovazione e infrastrutture Ridurre le disuguaglianze